¿Intel utilizará SOI en su proceso de 22nm?

Gus Richard, analista de Piper Jaffray & Co, afirma que Intel podría adoptar finalmente la tecnología SOI (silicon-on-insulator o "silicio en aislador") para su proceso de 22nm.

De momento Intel ha dado pequeños detalles sobre su nuevo proceso y, aunque no ha llegado a confirmar ni a desmentir la utilización de la tecnología SOI, la adopción de la misma facilitaría a Intel un salto tecnológico espectacular capaz de dejar a sus competidores entre 3 y 5 años por detrás, según afirma el propio Gus.
Según Richard, Intel utilizará un sistema de doble inmersión y multi-patrón en sus litografías de 22nm y 16nm, por lo que no cabe duda de que Intel realmente quiere llevar la litografía una generación por delante de la competencia, algo que se completaría con la introducción en dicho proceso de un canal de germanio y el mencionado SOI.